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PVD 코팅 반도체 코팅 및 광학 코팅을 위한 탄탈 스프터링 타겟
제품 상세 정보
| 이름 | PVD 코팅 탄탈 목표물 | 등급 | Ta1 Ta2 RO5200 RO5400 RO5252 RO5255 |
|---|---|---|---|
| 순수성 | ≥99.95% | 밀도 | 160.68g/cm3 |
| 표면 | 가공 표면 | 표준 | ASTM B708 |
| 전달 상태 | 어닐링됩니다 | 형태 | 평면 타겟 회전 타겟 특수 모양 사용자 정의 |
| 강조하다 | 광적 코팅 탕탈 ターゲット,PVD 코팅 탄탈 스프터링 목표물,반도체 코팅 탄탈 스프터링 목표물 |
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제품 설명
제품 정보:
| 이름 | PVD 코팅 탕탈륨 표적 |
| 등급 | TA1 TA2 RO5200 RO5400 RO5252 RO5255 |
| 순수성 | ≥99.95% |
| 밀도 | 160.68g/cm3 |
| 표면 | 가공된 표면, 구멍, 스크래치, 얼룩, 부러기 및 기타 결함이 없습니다. |
| 표준 | ASTM B708 |
| 형태 | 평면 타겟, 회전 타겟, 특수 모양의 사용자 정의 |
PVD 코팅 탄탈 표적의 화학 성분:
| 등급 | 주요 요소 | 불순물 함량은 % 미만 | |||||||||||
| 타 | Nb | 페 | 네 | 니 | W | 모 | 티 | Nb | 오 | C | H | N | |
| Ta1 | 계속 있어 | ∙ | 0.005 | 0.005 | 0.002 | 0.01 | 0.01 | 0.002 | 0.04 | 0.02 | 0.01 | 0.0015 | 0.01 |
| Ta2 | 계속 있어 | ∙ | 0.03 | 0.02 | 0.005 | 0.04 | 0.03 | 0.005 | 0.1 | 0.03 | 0.01 | 0.0015 | 0.01 |
| TaNb3 | 계속 있어 | <3.5 | 0.03 | 0.03 | 0.005 | 0.04 | 0.03 | 0.005 | ∙ | 0.03 | 0.01 | 0.0015 | 0.01 |
| TaNb20 | 계속 있어 | 170.0230 | 0.03 | 0.03 | 0.005 | 0.04 | 0.03 | 0.005 | ∙ | 0.03 | 0.01 | 0.0015 | 0.01 |
| Ta2.5W | 계속 있어 | 0.005 | 0.005 | 0.002 | 3 | 0.01 | 0.002 | 0.04 | 0.02 | 0.01 | 0.0015 | 0.01 | |
| Ta10W | 계속 있어 | 0.005 | 0.005 | 0.002 | 11 | 0.01 | 0.002 | 0.04 | 0.02 | 0.01 | 0.0015 | 0.01 | |
PVD 탄탈 타겟의 특징:
높은 녹는점
낮은 증기 압력
좋은 냉동 작업 성능
높은 화학적 안정성
액체 금속 진열에 강한 저항력
표면 산화물 필름은 큰 다이 일렉트릭 상수를 가지고
적용:
탕탈륨 표적과 구리 뒷 표적이 용접되고 반도체 또는 광학 스프터링이 수행됩니다.그리고 탄탈 원자는 스프터링 코팅을 얻기 위해 산화물 형태로 기판 물질에 퇴적됩니다.탄탈륨 타겟은 주로 반도체 코팅, 광학 코팅 및 기타 산업에 사용됩니다. 반도체 산업에서,금속 (Ta) 은 현재 주로 표적 재료로 물리적 증기 퇴적 (PVD) 을 통해 코팅 및 장벽 층을 형성하는 데 사용됩니다..
우리는 고객의 그림에 따라 처리 할 수 있습니다. 그리고 타 막대, 판, 와이어, 엽록물, 크루시블 등을 생산합니다.
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