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데이비드

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고순도 스프터 코팅 탄탈 표적 탄탈 디스크 표적 99.95% 99.999%

원래 장소	중국
브랜드 이름	PRM
인증	ISO9001
모델 번호	관습
최소 주문 수량	1PC
가격	Negotiate
포장 세부 사항	합판 상자
배달 시간	7~10 작업 일수
지불 조건	T/T, L/C
공급 능력	5000kgs/월

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제품 상세 정보

이름	탄탈륨 스퍼터 코팅 타겟	등급	RO5200,RO5400,RO5252,RO5255,Ta1,Ta2
순수성	99.95% 99.99%	형태	디스크 및 플레이트
크기	고객의 그림에 따라서	밀도	16.75g/cm3

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제품 설명

고순도 스프터 코팅 탄탈 표적 탄탈 디스크 표적

1- 사양 스프터 코팅 탄탈 표적:

스프터 코팅 탄탈 표적

소재: R05200, R05400, R05252 (Ta-2.5W), R05255 (Ta-10W)

원형 표적: 직선 25mm ~ 400mm x 두께 3mm ~ 28mm

직사각형 표적: 두께 1mm ~ 12.7mm x 너비 < 600mmx 길이 < 2000mm

순도: >=99.95% 또는 99.99%

표면: 밝고 닦은

상태: 반열

우리는 또한 귀하의 요청에 따라 처리 할 수 있습니다.

등급	3N, 3N5, 4N, Ta 99.99%min
재결결	95%분
곡물 크기	ASTM 4 또는 그 이상
표면 마감	최대 16Rms 또는 Ra 0.4 (RMS64 이상)
평면성	00.1mm 또는 최대 0.15%
용인성	모든 차원에서 +/-0.010"

고순도 스프터 코팅 탄탈 표적 탄탈 디스크 표적 99.95% 99.999% 0

2화학적 성분스프터 코팅 탄탈 표적:

등급	원소 함수 ((wt%)
등급	C	N	오	H	페	네	니	티	모	W	Nb	타
Ta1	0.01	0.005	0.015	0.0015	0.005	0.005	0.002	0.002	0.01	0.01	0.05	계속 있어
Ta2	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.02	0.005	0.005	0.03	0.04	0.1	계속 있어
TaNb3	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.03	0.005	0.005	0.03	0.04	10.5~3.5	계속 있어
TaNb20	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.03	0.005	0.005	0.02	0.04	17~23	계속 있어
TaNb40	0.01	0.01	0.02	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	0.05	35~42	계속 있어
TW25	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	20.0~3.5	0.5	계속 있어
TW75	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	6.5~8.5	0.5	계속 있어
TaW10	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	9.0~11	0.1	계속 있어

3적용스프터 코팅 탄탈 표적:

탄탈 스프터링 타겟은 압력 처리를 통해 얻은 탄탈 엽입니다. 높은 화학 순도, 작은 곡물 크기, 재 결정 구조 및 세 축에 좋은 일관성을 가지고 있습니다.주로 광섬유에 사용됩니다.반도체 웨이퍼 및 통합 회로. 스프터 퇴적 코팅에 대 한 탕탈륨 타겟은 카토드 스프터 코팅, 고 진공 게터 활성 물질 등을 위해 사용할 수 있습니다.그리고 얇은 필름 기술에 중요한 재료입니다..

4스프터 코팅 목표의 장점:

- 고품질의 닦은 표면
- 밀도가 높은 미세 구조를 가진 균일한 곡물은 사용 시간이 길어집니다.

- 전문적인 판매 후 서비스

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