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마그네트론 타겟을 위한 몰리브덴 회전식 스퍼터 표적

1. 마그네트론 타겟을 위한 몰리브덴 회전식 스퍼터 표적에 대한 기술 :

회전식 스퍼터 표적이 보통 인 마그네트론 타겟인 몰리브덴은 작전 동안 저속에 회전할 고정 자석 내부와 원통 형상으로 제조했습니다. 공통 품질 규격은 다음과 같습니다 : ID-133/OD-157x 3191 밀리미터 ; ID-133/OD-157 Ｘ 3855 밀리미터 ; ID-160/OD-180x1800mm. 우리는 다양한 정규 크기로 몰리브덴 회전 타겟을 제공하고, 또한 고객의 특정 요구 사항에 따라 기계화될 수 있습니다.

스퍼터 표적이 익숙한 몰리브덴 회전의 모양으로 코팅 물질은 평면 패널 스크린 (TFT LCD, OLED)를 위해 CIGS 백접점 또는 박막 트랜지스터를 위한 몰리브데늄 층을 생산합니다. 한덩어리로 되어 있는 회전대음극은 어떤 라이너도 가지고 있지 않고, 그러므로 100% 코팅 물질로 구성됩니다. 더 높은 처리량을 가능하게 하는 동안 이러한 목표는 의미 심장하게 말 많은 실적을 개선할 수 있습니다. 그러므로, 상승된 재료 수율은 또한 사로잡힌 회전대음극과 비교하여 코팅 공정에서 제조 비용을 감소시킵니다.

2. 마그네트론 타겟을 위한 몰리브덴 회전식 스퍼터 표적의 특징 :

그것은 좋은 성능요건을 가지고 있고 따라서, 몰리브덴의 사용 온도와 같이 회전대음극이 1800년' Ｃ이고 따라서, 가장 높은 사용 온도가 2310' Ｃ이고, 밀도는 10.2 g/cm3 이고, 순도는 99.95% 이고 따라서, 종종 태양 전지, 건축용 유리, 자동차 유리, 반도체, 평면 TV, 등의 준비로 사용됩니다.

3. 마그네트론 타겟을 위한 몰리브덴 회전식 스퍼터 표적의 장점 :

몰리브덴 회전대음극은 몰리브덴 스퍼터 표적의 활용률을 향상시키기 위한 방법입니다. 몰리브덴 판형 타깃과 비교해서, 표적 구조를 회전시키는 몰리브덴의 설계는 몰리브덴 스퍼터 표적의 실질적인 장점을 보여줍니다. 목표물 평생은 기판에 놓아질 수 있는 스퍼터링 파워 시간 스퍼터링 시간 또는 물질의 전체 두께로서 규정됩니다. 몰리브덴 평평한 목표부터 몰리브덴 회전 타겟까지 결합구조와 디자인의 변화는 목표의 활용률을 높였고 활용률이 30%에서 몰리브덴 평평한 목표 중 50%에서부터 몰리브덴 회전 타겟 중 > 80%까지 증가할 수 있습니다. 게다가 목적 물질의 삶이 스퍼터링 파워에 스퍼터링 시간을 곱함으로써 측정되면, 몰리브덴 회전대음극의 삶은 몰리브덴 평평한 목표물의 그것 보다 5 배 깁니다. 몰리브덴 회전 타겟이 스퍼터링 공정 동안 끊임없이 회전하기 때문에, 그것의 표면에 어떤 무거운 증착도 있지 않을 것입니다.

4. 마그네트론 타겟을 위한 몰리브덴 회전식 스퍼터 표적의 화학 물질 함량 :

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