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3410±20C 텅스텐 제품은 진공 스퍼터링 코팅 텅스텐 타겟 텅스텐 둥근 접시 목표물 Ｗ 플레이트를 위해 목표로 삼습니다
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x제품 상세 정보
| 이름 | 진공 스퍼터링 코팅을 위한 텅스텐 타겟 | 재료 | 순수한 텅스텐 |
|---|---|---|---|
| 순도 | 99.95% | 비중 | 19.3 g/cm3 |
| 융해점 | 3410±20C | 서피스 | 닦습니다 |
| 사이즈 | 고객의 그림에 따라서 | 표준 | ASTM B760 |
| 강조하다 | 닦은 텅스텐 제품,ASTM B760 텅스텐 제품,99.95% 텅스텐 타겟 |
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제품 설명
진공 스퍼터링 코팅을 위한 텅스텐 타겟
1. 진공 스퍼터링 코팅을 위한 텅스텐 타겟에 대한 기술 :
텅스텐 타겟이 무엇입니까? 그것은 또한 텅스텐 스퍼터 표적으로 알려집니다. 그것은 원료로서 순수한 텅스텐 파우더로 만들어진 제품입니다. 그것의 출현은 은 백색입니다. 그것은 우수한 물리적이고 화학적 특성을 가지고, 많은 분야에 매우 인기있습니다.
항공우주, 희귀 토양 용융제련, 전기 광원들, 화학과 의학 장비, 장비를 용해한 야금술 기계, 석유와 다른 업계는 주로 텅스텐 타겟을 사용합니다.
2. 진공 스퍼터링 코팅을 위한 텅스텐 타겟의 사이즈와 허용한도 :
| 아이템 이름 | 마그네트론 스퍼터링 코팅을 위한 텅스텐 스퍼터 표적 |
| 순도 | 99.95% |
| 형태 | 당신의 요구에 따르면, / 회전 타겟을 평탄화하세요 |
| 이용 가능한 사이즈 |
만곡되세요 : dia 25~300mm, 두께 :<20mm> 직사각형입니다 : 1500 밀리미터에 달하는 길이 특화는 이용 가능합니다 |
| 증명서 | ISO9001 :2008년, SGS, 세번째 테스트 리포트 |
| 기교 | 열간 등압 압축 성형 |
| 애플리케이션 |
넓게 처리 산업을 코팅하는 것이 사용되기 한 : 전자적이고 반도체 응용. 비 : 장식과 코팅 적용. 기타 등등. |
다른 사이즈는 고객의 그림에 따라 처리될 수 있습니다.
텅스텐 스퍼터링 목표는 표준 가열냉각에 의해 제조됩니다
폭 허용한도 : +/-1/32"
길이 허용 오차 : +1/16 , -0
서피스는 끝납니다 : 닦습니다
표준 : ASTM B760
3. 진공 스퍼터링 코팅을 위한 텅스텐 타겟의 특징 :
1) 고순도 ; 목표의 순도는 소결하고 위조한 후 일반적으로 99.95%보다 더 커서 도달할 수 있습니다. 더 높게 일반적으로, 잘 코팅의 전기적인 품질과 그것이 관련된 회로가 밖에 단락되거나 손상될 것이라는 것이라는 것을 덜 있음직한 것 목적 물질의 순도는 다른 요소가 그대로라고 공급했습니다.
2) 분말 야금을 사용하는 직접적 레코드는 더 빨리과 상대적으로 공정한 비용에 행해질 수 있으며, 그것이 생산 주기를 줄임으로써 비용을 절감할 수 있습니다.
3) 고밀도 ; 소결하고 위조한 후, 바람직한 비중은 19.3g/cm3을 초과할 수 있습니다.
4) 초미세 순수한 텅스텐 파우더로부터 만들어진 끝난 목표는 높은 편향 강도와 일반적으로 동질적이고 일관된 구성을 가집니다.
5) 우수한 열화학적 안정성 ; 부피 수축 또는 확장, 다른 화합물, 기타 등등과 화학 반응에 저항력이 있습니다.
6) 저항은 낮고, 회로가 불필요한 에너지를 생성하는 것을 하지 않을 것입니다.
덧붙여, 그것은 논-톡식과 비방사능이고 고융점, 고탄성, 저팽창 계수와 저기압을 가집니다.
4.진공 스퍼터링 코팅을 위한 텅스텐 타겟의 화학조성 :
| 품질 기준 (99.95% W) | |||
| 요소 | 가치 (| 요소 |
가치 ( | |
| Fe | 5 | Mo | 10 |
| Ni | 3 | Ｐ | 1 |
| Al | 2 | Ｃ | 5 |
| Si | 3 | 오우 | 3 |
| Ca | 3 | 엔 | 3 |
| Mg | 2 | ||
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