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마그네트론 스퍼터링 코팅 텅스텐 디스크 텅스텐 타겟 텅스텐 탄환 재고품을 위한 목표물을 스퍼터링시키는 라운드 텅스텐
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x제품 상세 정보
| 이름 | 마그네트론 스퍼터링 코팅을 위한 텅스텐 스퍼터 표적 | 재료 | 순수한 텅스텐 |
|---|---|---|---|
| 순도 | 99.95% | 비중 | 19.3 g/cm3 |
| 형태 | 라운드 목표물 | 두께 | <20mm> |
| 지름 | 25~300mm | 서피스 | 닦습니다 |
| 표준 | ASTM B760 | ||
| 강조하다 | 목표물을 스퍼터링시키는 라운드 텅스텐,맞춘 텅스텐 스퍼터 표적,목표를 스퍼터링시키는 티타늄-텅스텐 |
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제품 설명
마그네트론 스퍼터링 코팅을 위한 텅스텐 스퍼터 표적
1. 텅스텐에 대한 기술이 마그네트론 스퍼터링 코팅을 위한 타겟을 스퍼터링시킵니다 :
텅스텐층은 TFT-LCD 스크린의 박막 트랜지스터 패널의 일부입니다. 그들은 대형 스크린 포맷과 극단적으로 높은 이미지 명확성과 최적화된 대비율이 요구될 때 사용됩니다. 텅스텐 타겟은 예를 들면 주파수 필터 (표면 음향파 필터 (톱), 벌크 음파 필터 (BAW))에서 코팅을 형성하기 위해!, 또한 마이크로일렉트로닉스 업계에서 사용됩니다. 텅스텐 타겟을 위한 다른 애플리케이션은 확산 방지가 마이크로 전자 부품에서 질화 텅스텐, 도체 트랙으로 만들었고 민감한 분산된 투명 층이 OLED 디스플레이와 전기 화학 응용을 위해 텅스텐 산화물로 만든 것을 포함합니다.
자전관 스퍼터링 공정 (PVD 공정)에서, 스퍼터 표적은 얇은 필름을 형성하면서, 코팅될 물질에 침적되는 (이에 기판) 작은 금속 입자를 공개합니다. 이 코팅 공정은 경제적이고 빠르며, 모든 자재가 가장 엄격한 품질 기준을 충족하여야 합니다.
2. 마그네트론 스퍼터링 코팅을 위한 텅스텐 스퍼터 표적의 사이즈와 허용한도 :
| 아이템 이름 | 마그네트론 스퍼터링 코팅을 위한 텅스텐 스퍼터 표적 |
| 순도 | 99.95% |
| 형태 | 당신의 요구에 따르면, / 회전 타겟을 평탄화하세요 |
| 이용 가능한 사이즈 |
만곡되세요 : dia 25~300mm, 두께 :<20mm> 직사각형입니다 : 1500 밀리미터에 달하는 길이 특화는 이용 가능합니다 |
| 증명서 | ISO9001 :2008년, SGS, 세번째 테스트 리포트 |
| 기교 | 열간 등압 압축 성형 |
| 애플리케이션 |
넓게 처리 산업을 코팅하는 것이 사용되기 한 : 전자적이고 반도체 응용. 비 : 장식과 코팅 적용. 기타 등등. |
다른 사이즈는 고객의 그림에 따라 처리될 수 있습니다.
텅스텐 스퍼터링 목표는 표준 가열냉각에 의해 제조됩니다
폭 허용한도 : +/-1/32"
길이 허용 오차 : +1/16 , -0
서피스는 끝납니다 : 닦습니다
표준 : ASTM B760
3. 마그네트론 스퍼터링 코팅을 위한 텅스텐 스퍼터 표적의 화학조성 :
| 품질 기준 (99.95% W) | |||
| 요소 | 가치 (| 요소 |
가치 ( | |
| Fe | 5 | Mo | 10 |
| Ni | 3 | Ｐ | 1 |
| Al | 2 | Ｃ | 5 |
| Si | 3 | 오우 | 3 |
| Ca | 3 | 엔 | 3 |
| Mg | 2 | ||
4. 텅스텐의 애플리케이션이 마그네트론 스퍼터링 코팅을 위한 타겟을 스퍼터링시킵니다 :
텅스텐 스퍼터 표적은 주로 집적 회로, 정보 스토리지, 액정 화면, 레이저 메모리, 전자 조절 장치, 기타 등등과 같은 전자와 정보 산업에서 사용됩니다 ; 그들은 또한 유리 코팅의 분야에서 사용될 수 있습니다 ; 그들은 또한 내마모재, 고온저항 부식, 최고급 장식적 제품과 다른 산업에서 사용될 수 있습니다.
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