전자 산업 텅스텐 합금 시트 냉간 압연 텅스텐 시트를 밝히기 위한 ASTM B760 텅스텐 시트 금속 플레이트

전자 산업을 밝히기 위한 텅스텐 시트

1. 조명 전자 산업을 위한 텅스텐 시트 기술 :

등압 압축 성형은 텅스텐 분말을 만드는데 사용되며, 그것이 텅스텐 평판을 만들기 위해 다음에 고온에서 소결됩니다. 텅스텐 평판이 압연기에 의해 회전시킨 후, 텅스텐판과 텅스텐 시트는 전단 장치에 의해 줄여지고 형성됩니다. 그들은 주로 전기적 진공의 제품을 위해 사용됩니다. 노, 열 차폐물의 가열 소자와 전기적 진공 전기 광원, 기타 등등, 텅스텐 보트의 부품은 짓밟음으로써 텅스텐 시트로 만들었고 형성되는 것 진공증착 기구를 위해 사용됩니다.

2. 전자 산업을 밝히기 위한 텅스텐 시트의 규모 :

1) 이름 : W1 (Ｗ 99.95% 분)
2) 애플리케이션 : 전기적 진공, 조명, 전자 공업을 위해.

3) 추운 채 회전시킵니다
a) 두께 : 0.10-1.0mm
b) 폭 : 500 밀리미터 최대

c) 길이 : 1000 밀리미터 최대

4) 굴려져서 뜨거워지세요
a) 두께 : 1.0-4.0mm
b) 폭 : 500 밀리미터 최대

c) 길이 : 1000 밀리미터 최대

서피스 : 닦은 검은, 알칼리성 세정

표준 : ASTM B760

3. 조명 전자 산업을 위한 텅스텐 시트의 기술을 생산하세요 :

텅스텐 분말은 등압 압축 성형에 의해 형성되고 텅스텐판으로 준비하기 위해 그리고 나서 진공에서 고온에서 소결되며, 그것이 직접적으로 고객들에게 공급될 수 있거나 필요한 텅스텐판이 많은 시간 동안 텅스텐 시트를 회전시킨 후 획득될 수 있습니다. 굴리기는 열간 압연으로 분할될 수 있습니다. 따뜻한 채 회전시키고 추운 채 회전시킵니다. 텅스텐의 강변형 저항 때문에, 보통 명부는 완전히 회전하는 텅스텐 시트를 위한 요구조건을 충족시킬 수 없습니다 ; 그 대신에, 사용되 명부는 특정 재료를 구성했습니다. 굴리기 동안, 명부는 미리 가열되어야 합니다. 예열 온도는 100에서부터 350' Ｃ까지 회전하는 환경에 따라 다릅니다. 처리는 공백이 그것의 실제 이론적인 밀도 사이의 차이가 90% 보다 더 크게 인 상대 밀도일 때 가능합니다. 처리 성능은 블랭크 농도가 92와 94%의 사이에 있을 때 또한 호의적입니다. 군인 숙사는 1 350과 1500년 '온간 압연의 C.The 시작 온도가 1200년입니다' Ｃ 사이의 부적절히 선별적 변형 파라메터와 열간 압연 군인 숙사의 온도의 결과로서 얇은층으로 갈라질 것이고 열간 강판의 두께가 8 밀리미터입니다. 온간 압연 뒤에, 그것은 0.5 밀리미터에 도달할 수 있고 그리고 나서 냉간 압연이 0.1 밀리미터에 익숙해져 있을 수 있습니다.

4. 전자 산업을 밝히기 위한 텅스텐 시트의 애플리타이온 :

텅스텐 시트는 전기 광원 부분과 전기 진공 장치를 위해 사용될 수 있습니다 ; 텅스텐 보트를 만들기 ; 열 차폐물과 고온 도가니의 가열 소자 ; 의료 진단과 처리 설비 ; 확산과 간섭 차폐성 ; 진공증착 기구.

5. 조명 전자 산업을 위한 텅스텐 시트의 켐치알 콘텐츠 :

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